氧离子助镀(IAD)SiO包装产品使用的绝缘膜方铝管

SiO2薄膜如果压力过大，薄膜将有气氧离子助镀包装产品使用的绝缘膜方铝管孔并且易碎，相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大，需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性，必要是需要氧随方铝管基板的温度的改变而改变的.在室温中蒸镀，MGF2膜层通常被手指擦伤，具有比较高的湿度变化.在真空中大约N=1.32，堆积密度82%，使用300(℃)蒸镀，其堆积密度将达到98%,N=1.39它的膜层能通过消除装置的擦伤测试并且温度变化低，在室温与300(℃)之间，折射率与密度的变化几乎成正比例的. 在玻璃上冷镀MGF2加以IAD助镀可以得到300(℃)同等的薄膜，但是125-150EV能方铝管量蒸镀可是最适合的.在塑料上使用IAD蒸镀几乎强制获得合理的附着力与硬度.经验是MGF2不能与离子碰撞过于剧烈.气和氩气混合充气，但是这是热镀的情况，冷镀时这种性况不存在. 氧离子助镀包装产品使用的绝缘膜方铝管

SiO2用于防反膜，冷光膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜. 方铝管

透光范围(nm) 折射率(N) 550nm 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 杂气排放量

200--2000 1.46 1800-2200 电子枪，防反膜，增氧离子助镀包装产品使用的绝缘膜方铝管透 少，升华